氦質(zhì)譜檢漏泄漏率介紹

為什么氦被用作示宗氣體？

氦的特性:

分子量小，活躍。

空氣中含量小:5PPM。

氦是惰性氣體，無(wú)毒無(wú)害。

對(duì)于槍法，基于大氣中的氦含量，背景值通常通過(guò)調(diào)節(jié)針閥調(diào)整到-6級(jí)來(lái)定性泄漏測(cè)量；對(duì)于真空法，可以定量測(cè)量泄漏。

檢漏儀三大模塊：

1.真空系統(tǒng)。

前泵+分子泵組合成真空系統(tǒng)，以獲得高真空。

2.檢測(cè)系統(tǒng)。

閥門(mén)、內(nèi)置漏孔、氦質(zhì)譜室。

3.電路系統(tǒng)。

電信號(hào)控制系統(tǒng)由主板、電源板、分子泵驅(qū)動(dòng)板、通信板組成。

真空法

基本方法比較：注：空氣中約5ppm氦氣成分。

注：注：

建議每月對(duì)檢漏儀進(jìn)行校準(zhǔn)檢查；

氦檢儀工作時(shí)必須放在水平地面上，不得移動(dòng)；

上部檢測(cè)口不能在TEST狀態(tài)下打開(kāi)，只能在VENT狀態(tài)下打開(kāi)；

四種常見(jiàn)的氦質(zhì)譜檢漏方法的檢測(cè)原理、優(yōu)缺點(diǎn)及檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)：

氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測(cè)量原理，實(shí)現(xiàn)被檢件的氦泄漏測(cè)量。當(dāng)被檢件密封面有漏孔時(shí)，表示泄漏氣體氦等成分的氣體會(huì)從漏孔中泄漏。泄漏氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后，由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識(shí)別能力，只給出氣體中氦分壓信號(hào)值。在獲得氦信號(hào)值的基礎(chǔ)上，通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)漏孔比較，可以獲得氦泄漏量。

氦質(zhì)譜檢漏法可分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法?？偨Y(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測(cè)原理、優(yōu)缺點(diǎn)和標(biāo)準(zhǔn)。

真空法氦質(zhì)譜檢漏。

采用真空法泄漏檢測(cè)，需要使用輔助真空泵或泄漏檢測(cè)器對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室進(jìn)行真空，采用氦罩或噴霧法在被檢產(chǎn)品外表面施加氦氣。當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有泄漏時(shí)，氦氣將通過(guò)泄漏進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部，然后進(jìn)入氦質(zhì)譜泄漏檢測(cè)儀，從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品的泄漏測(cè)量。根據(jù)泄漏氣體的不同方法，真空法可分為真空噴霧法和真空氦罩法。其中，真空噴霧法通過(guò)噴槍向被檢產(chǎn)品外表面噴灑氦氣，可實(shí)現(xiàn)漏洞的準(zhǔn)確定位；真空氦罩法采用具有一定密封功能的氦罩覆蓋所有被檢產(chǎn)品，覆蓋一定濃度的氦氣，可實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總泄漏率的測(cè)量。

真空法具有檢測(cè)靈敏度高、定位準(zhǔn)確、檢漏大容器或結(jié)構(gòu)復(fù)雜的優(yōu)點(diǎn)。

真空法的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)主要包括QJ3123-2000氦質(zhì)譜真空泄漏檢測(cè)方法、GB/T15823-2009氦泄漏檢測(cè)，主要用于真空密封性能要求，單車(chē)、環(huán)境模擬設(shè)備等真空密封性能要求。

正壓法氦質(zhì)譜檢漏。

采用正壓法檢漏時(shí)，需要將被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室充入大氣壓力以上的氦氣。當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏洞時(shí)，氦氣會(huì)通過(guò)漏洞進(jìn)入被檢外表面周?chē)拇髿猸h(huán)境，然后通過(guò)吸槍檢測(cè)被檢產(chǎn)品周?chē)髿猸h(huán)境中氦氣濃度的增加，從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品的泄漏測(cè)量。根據(jù)氦氣收集方法的不同，正壓法可分為正壓吸槍法和正壓積累法。其中，正壓吸槍法采用泄漏探測(cè)器對(duì)被檢產(chǎn)品外表面進(jìn)行掃描探測(cè)，可實(shí)現(xiàn)漏洞的準(zhǔn)確定位；正壓積累法采用具有一定密封功能的氦罩覆蓋所有被檢產(chǎn)品，用泄漏探測(cè)器測(cè)量一段時(shí)間前后氦罩內(nèi)氦濃度的變化，實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總泄漏率的準(zhǔn)確測(cè)量。

正壓法的優(yōu)點(diǎn)是不需要輔助真空系統(tǒng)，可以精確定位，實(shí)現(xiàn)任何工作壓力下的檢測(cè)。

正壓法的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)主要包括QJ3089-1999《氦質(zhì)譜正壓泄漏檢測(cè)方法》、QJ2862-1996《壓力容器焊接氦質(zhì)譜吸槍罩盒泄漏檢測(cè)方法》，主要用于高壓氦氣瓶、艙門(mén)檢漏儀等大容量高壓封閉容器產(chǎn)品的泄漏檢測(cè)。

真空壓力法氦質(zhì)譜檢漏。

當(dāng)采用真空壓力法泄漏檢測(cè)時(shí)，需要將被檢測(cè)產(chǎn)品整體放入真空密封室，真空密封室與輔助空氣系統(tǒng)和泄漏檢測(cè)器連接，被檢測(cè)產(chǎn)品的充氣接口通過(guò)連接管引出真空密封室，然后與氦源連接，當(dāng)被檢測(cè)產(chǎn)品表面有泄漏時(shí)，氦通過(guò)泄漏進(jìn)入真空密封室，然后進(jìn)入氦譜泄漏檢測(cè)器，實(shí)現(xiàn)被檢測(cè)產(chǎn)品總泄漏率的測(cè)量。

真空壓力法的優(yōu)點(diǎn)是檢測(cè)靈敏度高，能實(shí)現(xiàn)任何工作壓力的泄漏率檢測(cè)，反映被檢件的真實(shí)泄漏狀態(tài)。

真空壓力法的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)包括GB/T15823-2009氦泄漏檢測(cè)，主要用于電磁閥、高壓充氣管道、推進(jìn)劑儲(chǔ)箱、天線、應(yīng)答器、整星產(chǎn)品等結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、壓力不是特別高的密封產(chǎn)品。

背壓法氦質(zhì)譜檢漏。

當(dāng)使用背壓檢漏時(shí)，首先將被檢產(chǎn)品放入高壓氦室，浸泡數(shù)小時(shí)或數(shù)天。如果被檢產(chǎn)品表面有漏孔，氦通過(guò)漏孔壓入被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封腔，增加內(nèi)部密封腔內(nèi)氦的壓力。然后取出被檢驗(yàn)產(chǎn)品，吹出表面殘余氦，將被檢驗(yàn)產(chǎn)品放入與泄漏檢驗(yàn)儀相連的真空容器中。被檢驗(yàn)產(chǎn)品內(nèi)部密封腔內(nèi)的氦通過(guò)漏孔泄漏到真空容器中，然后進(jìn)入氦質(zhì)譜泄漏檢驗(yàn)儀，實(shí)現(xiàn)被檢驗(yàn)產(chǎn)品的總泄漏率測(cè)量。泄漏檢驗(yàn)儀給出的泄漏值為測(cè)量泄漏率，需要通過(guò)轉(zhuǎn)換公式計(jì)算被檢驗(yàn)產(chǎn)品的等效標(biāo)準(zhǔn)泄漏率。

背壓法的優(yōu)點(diǎn)是檢測(cè)靈敏度高，可實(shí)現(xiàn)小型密封容器產(chǎn)品的泄漏檢測(cè)，可進(jìn)行批量檢測(cè)。

背壓檢漏標(biāo)準(zhǔn)主要包括QJ3212-2005《氦質(zhì)譜背壓檢漏方法》、GJB360A-1996《電子電氣元件試驗(yàn)方法112密封試驗(yàn)》，主要用于各種電子元件產(chǎn)品的檢漏。

涉及測(cè)試：低泄漏測(cè)試